退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。優(yōu)造節(jié)能熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的?？梢约訜峋约せ顡诫s劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復(fù)注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。退火爐在使用中常會遇到以下幾種情況：

1、退火溫度是否達(dá)到規(guī)定溫度。

退火爐一般是采取固溶熱處理，也就是人們平常所謂的“退火”，溫度范圍為1040~1120℃?？梢酝ㄟ^退火爐觀察孔觀察，退火區(qū)的不銹鋼管應(yīng)為白熾狀態(tài)，但沒出現(xiàn)軟化下垂。

2、退火氣氛。

一般都是采用純氫作為退火氣氛，如果氣氛中另一部分是惰性氣體的話，純度也可以低一點，但是不能含有過多氧氣、水汽。

3、爐體密封性。

退火爐應(yīng)是封閉的，與外界空氣隔絕；采用氫氣作保護(hù)氣的，只有一個排氣口是通的（用來點燃排出的氫氣）。檢查的方法可以用肥皂水抹在退火爐各個接頭縫隙處，看是否跑氣；其中容易跑氣的地方是退火爐進(jìn)管子的地方和出管子的地方，這個地方的密封圈特別容易磨損，要經(jīng)常檢查經(jīng)常換。